صفحه نگهدارنده مکش شیشه ای شیار کم عمق 265×9 میلی متر برای پوشش لنز نوری ویفر نیمه هادی

صفحه نگهدارنده وکیوم مکش چاک شیشه ای شیار کم عمق Φ265x9mm

این مکنده شیشه ای شیار کم عمق، به اندازه Φ265x9mm، دارای یک الگوی شیار کم عمق برای توزیع یکنواخت خلاء است. با مسطح بودن عالی، تنگی هوای عالی و ضریب انتقال بالا، نگهداری خلاء پایدار را برای ویفرهای نیمه هادی، پردازش لنزهای نوری، تولید شیشه خودکار و کاربردهای آزمایش دقیق آزمایشگاهی فراهم می کند.

پارامترهای محصول

ویژگی های کلیدی

• طراحی شیار کم عمق دقیق- الگوی شیار کم عمق شکل گرفته، توزیع یکنواخت هوای خلاء را در کل سطح چاک برای نگهداری پایدار و متعادل قطعه کار تضمین می کند.
• مسطح بودن برتر- سطح زمین دقیق با صافی عالی از تاب برداشتن قطعه کار و بلند شدن لبه در طول عملیات نگهداری و پردازش خلاء جلوگیری می کند.
• هوابندی عالی- عملکرد آب بندی خلاء با کیفیت بالا، فشار منفی ثابتی را برای جذب قابل اعتماد ویفرهای 5/6/8 اینچی و اجزای نوری حفظ می کند.
• مقاومت در برابر سایش و شیمیایی- سطح شیشه ای بادوام در برابر خوردگی سیال سنگ زنی و سیال برش مقاومت می کند، با خواص ضد پیری برای عمر مفید طولانی تر در مقایسه با جایگزین های پلاستیکی.
• انتقال بالا- ساختار شیشه ای شفاف اجازه بازرسی بصری و تراز نوری را در طول عملیات پردازش خلاء می دهد.

برنامه های کاربردی

1. صنعت نیمه هادی

چاک خلاء برای عملیات مکش، پوشش و انتقال ویفر. شیار کم عمق توزیع هوای یکنواخت را برای جذب پایدار ویفرهای 5/6/8 اینچی فراهم می کند و از خراشیدگی و آسیب ویفر سیلیکونی جلوگیری می کند.

2. پردازش اجزای نوری

چاک حامل خلاء برای فرآیندهای سنگ زنی و پوشش شیشه نوری و لنز، اعمال فشار منفی یکنواخت برای جلوگیری از تاب برداشتن لبه قطعه کار و تغییر شکل در حین ماشینکاری دقیق.

3. پردازش خودکار عمیق شیشه

چاک موقعیت یابی خلاء برای ایستگاه های برش و چاپ روی شیشه های فتوولتائیک و پوشش شیشه ای، مقاوم در برابر خوردگی سیال برش برای عملیات خط تولید قابل اعتماد.

4. تست دقیق آزمایشگاهی

پایه تثبیت خلاء برای آزمایش نمونه نوری، ارائه فشار منفی مهر و موم شده برای تجزیه و تحلیل طیف و اندازه‌گیری انتقال نور با موقعیت‌یابی نمونه پایدار.

مزایا نسبت به صفحات مکش رزین/پلاستیک

در مقایسه با صفحات مکش رزین پلاستیکی، این چاک شیشه ای دقت ابعادی فوق العاده، مقاومت در برابر دمای بالا بدون تغییر شکل یا پیری، مقاومت عالی در برابر سیالات سنگ زنی و تمیز کردن اسید ضعیف، و سطح مقاوم در برابر سایش برای عمر مفید قابل توجهی را ارائه می دهد که آن را به انتخاب مطلوب برای فرآیندهای جذب خلاء با دقت بالا در نیمه هادی ها و نوری تبدیل می کند.