در تجهیزات صنعت نیمهرسانا، شیشه سیلیکا ذوبی اغلب در دماهای بالا از 1000 درجه سانتیگراد تا 1300 درجه سانتیگراد استفاده میشود. در چنین شرایطی، به دلیل چسبیدن ناخالصیها، پدیدهی شیشهزدایی رخ میدهد. بخشهای شیشهزدایی شده، نواحی متبلور شدهی سیلیکا ذوبی هستند و نقطهی تبدیل تبلور 275 درجه سانتیگراد است. هنگامی که شیشه سیلیکا ذوبی از دماهای بالا به این دمای تبدیل سرد میشود، لایهی شیشهزدایی شدهی متبلور شده روی سطح، ضریب انبساط حرارتی متفاوتی نسبت به فاز آلفای دمای بالا و فاز بتای دمای پایین خود شیشه سیلیکا ذوبی دارد. این امر منجر به ظاهری کدر و پوستهپوسته شدن در اثر خنکسازی سریع میشود؛ در موارد شدیدتر، ممکن است ترکخوردگی رخ دهد.
برای افزایش عمر مفید محصولات سیلیکا ذوبی، جلوگیری از علل شیشهزدایی بسیار مهم است. آلایندههای اصلی که منجر به شیشهزدایی میشوند عبارتند از فلزات قلیایی، فلزات قلیایی خاکی، عرق، بزاق، لکههای روغن، گرد و غبار و غیره. حتی سطح آلودگی 0.1 میلیگرم بر سانتیمتر مربع میتواند باعث افزایش ده برابری یا حتی صد برابری شیشهزدایی شود. بنابراین، برای جلوگیری از چسبیدن این آلایندهها به سطح سیلیکا ذوبی، باید از دست زدن مستقیم با دست خالی خودداری کرد. علاوه بر این، تمیز کردن کامل باید قبل از عملیات در دمای بالا انجام شود تا از تمیزی سطح سیلیکا ذوبی اطمینان حاصل شود.
تمیز کردن عمومی سیلیکا ذوبی از یک روش مشخص پیروی میکند: ابتدا سطح را با آب خالص شستشو میدهند، سپس آن را برای مدت زمان مشخصی در حمام اسید غوطهور میکنند، خارج میکنند، دوباره با آب خالص شستشو میدهند و در نهایت با هوا خشک میکنند. انواع محلولهای اسیدی به شرح زیر است:
| دسته/مورد | غلظت | زمان |
|---|---|---|
| اسید هیدروفلوئوریک (HF) | 47.0% ~ 52.0% | 1 ~ 2 دقیقه |
| اسید هیدروفلوئوریک (HF) | 5.0% ~ 10% | 10 ~ 15 دقیقه |
| اسید هیدروفلوئوریک + اسید نیتریک | 50% + 65% | 10 ~ 15 دقیقه |
| اسید هیدروفلوئوریک + اسید سولفوریک | 50% + 65% | 10 ~ 15 دقیقه |